公司簡介
我們是一家成立於 2025 年、專注於原子層鍍膜（Atomic Layer Deposition， ALD）設備設計與開發的深科技公司。ALD 是先進半導體、面板、光電與能源產業中不可或缺的薄膜製程技術，能以原子尺度逐層精準堆疊薄膜，達到傳統製程難以企及的均勻性、階梯覆蓋性與膜厚控制。隨著製程節點持續微縮、元件結構日趨立體複雜，ALD 的重要性與市場需求正快速攀升。
在這個關鍵領域中，我們投入光誘導原子層鍍膜（Photo-Induced ALD， PI-ALD）的自主技術開發——透過光能驅動表面反應，實現更低溫、更高效率、且更具製程彈性的鍍膜方案。我們不只是設備供應商，更期許成為下一世代薄膜製程的技術定義者。